技术指导

  光刻机，是芯片制作中心中的中心，光刻是半导体芯片出产流程中最杂乱、最要害的工艺进程，耗时长、本钱高。半导体芯片出产的难点和要害点在于将电路图从掩模上转移至硅片上，这一进程经过光刻来完成，光刻的工艺水平直接决议芯片的制程水平缓功能水平。芯片在出产中有必要进行 20-30 次的光刻，耗时占到 IC 出产环节的 50%左右，占芯片出产所带来的本钱的 1/3。

  上海微电子配备有限公司坐落于张江高科技园区内，附近国家集成电路产业基地、国家半导体照明产业基地和国家863信息安全效果产业化(东部)基地等多个国家级基地。企业成立于2002年，首要致力于大规模工业出产的投影光刻机研制、出产、出售与服务，公司产品可大规模的应用于IC制作与先进封装、MEMS、TSV/3D、TFT-OLED等制作范畴。

  上海微电子是国内光刻机龙头，承当多项国家严重科学技能专项和 02 专项光刻机科研任务，公司的前道制作光刻机最高已能完成 90nm 制程，刻机能满意各类先进封装工艺的需求。公司的封装光刻机已在国内外市场广泛出售，国内市占率到达 80%，全球市占率 40%。90nm 是光刻机的重要技能台阶，在功课 90nm 节点后，公司有望快速将产品延伸至 65nm、45nm 制程，完成国产半导体设备的巨大打破。

  根据先进的扫描光刻机渠道技能，供给掩盖前道IC制作90nm节点以上大规模出产所需，包括90nm、130nm和280nm等不同分辨率节点要求的ArF、KrF及i-line步进扫描投影光刻机。该系列光刻机可兼容200mm和300mm硅片。